삼성파운드리1 삼성 파운드리의 미래, GAA(게이트 올 어라운드) 3 나노 구현에 필수적인 공정 기술 GAA(게이트 올 어라운드) 단채널 효과(Short Channel Effect), 자열효과(Self Heating Effect), 기생 전류(Overlap Capacitance), 임팩트 이온화(Impact Ionization), 양자화 효과(Quantization Effect), 전자 포화(Current Saturation)와 같은 문제들을 어떻게 해결하느냐가 파운드리 산업을 이야기하며 우리가 주목해 볼 기술과 관련된 이야기이다. HKMG 공정 위의 단어들은 문제들을 해결하는 방법이자 파운드리 기업들의 기술 발전의 기간들을 담고 있는 단어들이다. HKMG(High-k Metal Gate)는 반도체 최신 공정과 관련한 주도권을 인텔이 쥐고 있던 시대를 상징하는 단어이다.. 2022. 8. 12. 이전 1 다음 반응형
