파장2 노광 기술의 과거와 오늘 그리고 미래(EUV) EUV(Extreme Ultra Violet) 1. 나노미터의 시대 지금 우리 시대를 나노미터의 시대라고 부른다. 대체 무엇이 나노미터 시대인가? 실리콘 웨이퍼 위에 얇은 산화 매을 입히는 과정이 끝나면 본격적인 반도체 공정이 시작되는데 여기서 등장하는 게 포토레지스트(감광제)이다. 일본 수출규제 당시 수출규제 품목이었다. 오늘의 주인공인 노광 과정이 등장하기 전에 산화막 처리가 된 웨이퍼 위에 감광제를 바르게 되면 모든 준비가 완료가 된다. 여기에 회로를 그리는 노광 공정이 진행될 차례입니다. 노광공정은 회로에 밑그림을 그리는 작업이다. 노광공정 이후에 작업은 각층을 벗겨내는 작업이기 때문에 가장 세밀한 작업이 필요한 곳, 미세 공정의 키를 쥐고 있는 공정이 노광공정이다. 노광공정의 기술력은 노광장비의.. 2022. 8. 8. 노광공정 해상도 반도체 전공정 기술은 선폭을 줄이는 것이 목표이자 핵심 경쟁력이고, 이는 성능개선과 원가개선을 동시에 달성할 수 있다. (동일 면적 내에 그림을 더 작게 그리면, 더 많은 그림을 그릴 수 있음 : 면적 당 생산성 증대 + 원가 절감) 왜 노광공정이 중요할까? 1) 노광공정은 공정 시간 기준으로 전체 생산 공정 시간의 약 60%를 차지하며, 원가율도 전체 중 약 35%가량을 차지할 정도로 비중이 크다. 2) 노광공정은 빛으로 웨이퍼에 반도체 회로를 그리는 작업으로 회로를 얼마나 미세하게 그릴 수 있는 지를 결정짓는 공정이다. 노광공정에서 미세공정 능력은 해상도를 통해 수치화된다. 해상도를 증가시키기 의한 방법은 레이레이의 방정식을 통해 확인 가능하다. 웨이퍼 표면에 전사할 수 있는 최소의 크기가 작을수록 .. 2022. 7. 27. 이전 1 다음 반응형
