반도체 전공정 EUV 계측장비 업체 파크시스템스 기업분석

바야흐로 반도체의 봄이 오고 있습니다.

반도체 전공정 EUV 계측장비 업체 파크시스템스 기업분석

 

오늘은 반도체 미세화로 주목을 받고 있는 전공정 EUV 계측장비 업체 파크시스템스의 기업분석과 계측장비의 중요성에 대해 알아보겠습니다.

 

반도체 미세화로 계측장비 중요성 증대

 

• 미세화 : 생산성 증가, 성능 향상
• 2010년 30나노 -> 2022년 3나노
• 공정난이도와 스텝수 증가
• 수율 관리 중요도 증가로 계측중요
• 회로선폭 축소 작은 파티클이 치명적 결함 초래
• 65나노 계측장비 비중 50%, 7나노 계측장비 비중 70%

 

점점 반도체 공정이 미세화되고 수율 싸움이 치열해지기 때문에 전공정에서도 미리미리 오염된 부분을 검출하는 것이 중요합니다.

 

오염된 부분을 검출하지 못하고 전공정을 다 끝낸 뒤에 후공정에서 결함이 발견된다면 수정하는 비용이 더 들거나 폐기를 해야 하기 때문입니다.

 

반도체 공정 미세화가 진행되면서 반도체 제조사들의 전공정 투자 확대 움직임이 가속화되고 있습니다.

 

최근 반도체 후공정 쪽으로 시선이 많이 쏠렸던 상황에서 전공정에 꼭 필요한 반도체 장비기업인 파크시스템스 기업소개 실적 주가전망에 대해서 알아보겠습니다.

 

파크시스템스 원자현미경

파크시스템스의 원자현미경은 극자외선 노광장비입니다.

 

EUV마스크의 결함을 발견하기도 하지만 결함을 제거해줄 수 있는 장비입니다.

 

EUV 빛을 쬐고 마스크를 통과해서 웨이퍼 위에 미세 회로를 새기는 공정이 있습니다.

 

이 공정을 포토 공정이라고 합니다. 여기서 파크 시스템스의 원자현미경이 사용됩니다.

 

점점 반도체 공정이 미세화되고 수율 싸움이 치열해지기 때문에 전공정에서도 미리미리 오염된 부분을 검출하는 것이 중요합니다.

 

오염된 부분을 검출하지 못하고 전공정을 다 끝낸 뒤에 후공정에서 결함이 발견된다면 수정하는 비용이 더 들거나 폐기를 해야 하기 때문입니다.

 

파크시스템스 원자현미경 AFM 주요 사용처

 

• Bare wafer defect
• Patterned wafer defect
• Device defect
• Mask defect

 

웨이퍼의 결함 검사, 산화 후 결함검사, 식각&연마 후 결함검사에 AFM이 사용됩니다.

 

파크시스템스 원자현미경 시장규모

원자현미경 vs 전자현미경 시장규모 $400Million vs $4 Billion

 

원자현미경 시장규모는 약 5,000억, 전자현미경 시장규모는 약 5조원으로 1/10 정도로 작지만 시간이 흐를수록 미세화공정에 대한 수요가 증가할수록 원자현미경의 수요는 증가할 것입니다.

 

파크시스템스 고객사

파크시스템스는 삼성전자, SK하이닉스, IBM, 어플라이머티리얼즈, 마이크론 등 세계 굴지에 반도체 기업들을 고객사로 두고 있습니다.

 

기업들의 납품되는 산업용 원자현미경뿐만 아니라 대학교 국책연구소 등에서 연구용으로 쓰이는 제품들도 납품을 하고 있습니다.

 

매출이 약 70% 연구용 장비 매출이 약 27%로 이루어져 있습니다.

 

파크시스템스 CEO

파크시스템스 박상일대표는 스탠포드에서 응용물리학 박사학위를 취득을 하고 원자현미경 AFM을 세계 최초로 개발한 캘빈 퀘이트 교수 연구실의 핵심 연구원이었습니다.

 

미국에서 원자현미경으로 Park scientific instrument를 창업을 했고 해당 사업체를 추후에 Bruker라는 현재 세계적인 원자현미경 회사에 매각을 했습니다.

 

Bruker는 얼마 전까지 세계 원자현미경 시장의 부동의 1위였습니다.

 

최근 파크시스템스 IR자료를 보니까, 이제는 시장 점유율이 파크시스템스가 20.3% Bruker가 18.8%로 원자현미경 분야에서 시장 점유율을 추월한 것으로 나타났습니다.

 

파크시스템스 제품

(1) NX-wafer

웨이퍼 위에 나노 크기의 오염이 있는지를 자동으로 검출 및 분석할 수 있는 기능을 제공하는 장비입니다.

 

기존의 광학현미경은 최고 수천 배의 배율 전자현미경은 최고 수십만 배의 배율이 확대 가능한 데 비해서 원자현미경은 최고 수천만 배까지 확대가 가능해서 0.01나노미터까지도 측정이 가능하기 때문에 아주 미세한 오염까지도 검출이 가능합니다.

 

(2) NX-Mask

2022년 하반기에 출시된 EUV 마스크 리페어 장비입니다.

 

NX-Mask는 장비에 장착된 Tip을 통해 마스크 패턴에 발생한 결함 검출 및 파티클의 형상을 측정하고 제거할 수 있습니다.

 

소프트 디펙과 하드 디펙 모두 개선 가능합니다.

 

웨이퍼에서의 미세한 나노 단위의 결함을 잡아내고 마스크에서의 결함을 잡아낼 수 있는 장비입니다.

 

건식 클리닝 시스템으로 기존 마스크 리페어 방식인 습식 방식과는 대비되는 방식입니다.

 

습식 방식의 마스크 리페어는 30nm이하 패턴에선 활용이 어렵지만 AFM을 응용한 건식 클리닝 사용 시, 미세 패턴에 대응 가능합니다.

 

국내 파운드리 기업과 대만 파운드리 기업에 공급이 이뤄진 상황이며 국내 파운드리는 EUV 포토마스크 리페어에 실제 적용하고 있으며, 대만 파운드리 기업은 연구소에서 장비 테스트를 진행 중입니다.

 

파크시스템스 실적

파크시스템스의 23년도 3분기 실적은 매출액 324억(YoY -12.32%), 영업이익 54.7억(YoY -59.46%)으로 지난해 대비 감소하였습니다.

 

파크시스템스 매출액은 2017년부터 지금까지 정말 꾸준하게 상승을 하는 모습을 보여주고 있습니다.

 

17년 기준 4분기 누적 매출액이 230억이었는데 23년 기준으로는 1340억이 됐습니다.

 

6년 만에 매출이 약 6배가 뛰었습니다.

 

영업이익도 꾸준하게 상승하고 있고 영업이익률이 25.5%로 굉장히 높은 이익률입니다.

 

부채 비율은 44.3%로 매우 양호한 수준이고 영업활동, 투자활동, 재무활동 현금흐름도 아주 적절한 그림을 보여주고 있습니다.

 

Capex 투자를 적절하게 해 가면서 잉여 현금 흐름도 계속 쌓여나가는 좋은 그림이 보여지고 있습니다. 수주 잔고도 꾸준히 상승해 나가고 있습니다.

 

4분기 누적 순수주액도 2021년 이후로 계속 꾸준하게 수주와 납품이 이루어지고 있습니다.

 

그리고 부문별 수주잔고 합계도 절대적인 수주 금액이 꾸준히 상승하고 있습니다.

 

파크시스템스 주가 목표

주가 현재 파크 시스템스의 EPS는 4,031원입니다.

 

여기에 코스닥 제조업 업종 평균 PER를 곱해보면 대략 21만 4000원이 나옵니다.

---

지금까지 반도체 미세화로 주목을 받고 있는 전공정 EUV 계측장비 업체 파크시스템스의 기업분석과 계측장비의 중요성에 대해 알아보았습니다.

 

함께 읽으면 좋은 글

반도체 후공정 티에프이(TFE) 주가 전망

PCB(인쇄회로기판) 관련주 분석 (이수페타시스, 대덕전자, 비에이치, 인터플렉스)

반도체 미세화 목적과 영향