TSMC10 삼성 파운드리의 미래, GAA(게이트 올 어라운드) 3 나노 구현에 필수적인 공정 기술 GAA(게이트 올 어라운드) 단채널 효과(Short Channel Effect), 자열효과(Self Heating Effect), 기생 전류(Overlap Capacitance), 임팩트 이온화(Impact Ionization), 양자화 효과(Quantization Effect), 전자 포화(Current Saturation)와 같은 문제들을 어떻게 해결하느냐가 파운드리 산업을 이야기하며 우리가 주목해 볼 기술과 관련된 이야기이다. HKMG 공정 위의 단어들은 문제들을 해결하는 방법이자 파운드리 기업들의 기술 발전의 기간들을 담고 있는 단어들이다. HKMG(High-k Metal Gate)는 반도체 최신 공정과 관련한 주도권을 인텔이 쥐고 있던 시대를 상징하는 단어이다.. 2022. 8. 12. 중국 파운드리 기업 SMIC 의 7나노 개발의 의미 미국의 중국 파운드리(SMIC) 기업 제재 2019년 5월 화웨이 제재가 발효되면서 시작된 미국의 중국 제재, 이에 미국 상무부는 강도를 높여 가며 중국의 심장부를 옥죄었습니다. 미국 기업들의 거래 제한 조치(직접 거래 금지: phase 1)는 미국 기술을 확 용한 모든 부품, 서비스로 확장(phase 2)되었고 미국 동맹국들도 제재에 합류하여 결국 화웨이는 무너졌다. 하지만 미국은 그들의 목표가 화웨이라는 기업 하나를 무너뜨리는 것이 아닌 중국의 야욕을 정말 차단하는 것임을 잊지 않았다. 트럼프는 계속해서 대중 제재 강도를 높였고 2020년 12월 퇴임을 앞둔 시점에서도 제재는 계속되었다. 이때 중국의 파운드리 기업 SMIC 가 미 상무부에 블랙리스트에 마침내 등재되게 되었다. 화웨이가 그랬던 것처럼 .. 2022. 8. 9. 이전 1 2 3 다음 반응형
